导读 代工厂在制造尖端芯片时使用的最重要工具之一是极紫外光刻(euv)机。这些小型组件内部有数十亿个晶体管(iphone15pro和iphone15promax上使用...

代工厂在制造尖端芯片时使用的最重要工具之一是极紫外光刻(euv)机。这些小型组件内部有数十亿个晶体管(iphone15pro和iphone15promax上使用的每个a17prosoc内部有190亿个晶体管),蚀刻在硅晶圆上的电路图案最终被切成单独的芯片,必须薄得可笑。这就是euv机器的用武之地。

荷兰公司asml是唯一一家生产euv机器的公司。与校车大小差不多,每台机器价值1.5亿美元。asml预计今年将出货60台euv机器。今天,根据tom'shardware的报道,该公司发货了第一台第二代euv机器,称为高数值孔径euv机器。第一批货将运往英特尔,英特尔将用于其18a(18埃)1.8纳米工艺节点,预计将于2025年开始量产。

2025年,台积电和三星代工预计将开始2纳米量产,英特尔的1.8纳米节点将使其在行业中处于工艺领先地位。据信英特尔将斥资3亿至4亿美元购买高数值孔径euv机器。asml发言人今天表示:“我们正在发货第一个高na系统,并在今天的社交媒体帖子中宣布了这一消息。该系统按计划交付给英特尔,并已早些时候宣布。”

正如我们两年前告诉您的那样,high-na代表高数值孔径。na数越高,蚀刻到硅晶片上的图案的分辨率就越高。目前的euv机器的孔径为0.33(相当于13nm的分辨率),而高na机器的孔径为0.55(相当于8nm的分辨率)。通过将更高分辨率的图案转移到晶圆上,代工厂可以避免将晶圆通过euv机器两次以添加额外的功能,从而节省时间和金钱。

高数值孔径euv机器的目的是减小晶体管的尺寸并增加密度,以便在芯片内封装更多的晶体管。芯片的晶体管数量越多,它的功能就越强大,能源效率也越高。使用高数值孔径机器,特征可以缩小1.7倍,密度增加2.9倍。

新迭代的高数值孔径euv机器将有助于将应用处理器的生产提升至2纳米及以下。就在上周,台积电终于与三星代工厂一起解决了2nm后的路线图。两家公司都计划在2027年使用1.4nm节点制造半导体。2nm生产预计将于2025年开始,几天前台积电允许苹果公司研究2nm原型芯片。

运输高数值孔径euv机器并非易事。它被分解成13个大集装箱和250个板条箱。组装机器可能比组装你给孩子买的假期自行车要困难一些。